Carl Zeiss liefert am Freitag sein 25. Großgerät zur Reparatur von Photomasken aus. Ein Kunde aus Italien hatte das mehrere Millionen Euro teure System bestellt. Das System MeRiT® kann Defekte auf Photomasken mit einer Genauigkeit im Nanometer-Bereich reparieren. Basierend auf einer speziellen Elektronenstrahltechnologie wird dabei fehlendes Material aufgetragen oder überschüssiges Material weggeätzt. Das Maskenreparatursystem, das im Jahr 2004 mit dem „Innovationspreis der deutschen Wirtschaft" ausgezeichnet wurde, nimmt bei der Chipherstellung eine entscheidende Rolle ein: Mit der immer weiter fortschreitenden Miniaturisierung von Chipstrukturen wird es zunehmend schwieriger, Photomasken ohne kritische Fehler herzustellen. Durch die Reparatur der Maske kann sie jedoch weiterverwendet werden.
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